| 000 |
|
01402nam 2200277 450 |
| 001 |
|
1000115568 |
| 005 |
|
20180517100533.0 |
| 010 |
__ |
■a978-7-302-48959-7■b精装■dCNY128.00 |
| 100 |
__ |
■a20180320d2018 em y0chiy50 ea |
| 101 |
0_ |
■achi |
| 102 |
__ |
■aCN■b110000 |
| 105 |
__ |
■aack a 000yy |
| 106 |
__ |
■ar |
| 200 |
1_ |
■a等离子体蚀刻及其在大规模集成电路制造中的应用■d= Plasma etching and its applicati+...... |
| 210 |
__ |
■a北京■c清华大学出版社■d2018.02 |
| 215 |
__ |
■a376页■c图, 肖像■d27cm |
| 225 |
2_ |
■a高端集成电路制造工艺丛书■Agao duan ji cheng dian lu zhi zao gong yi co+...... |
| 300 |
__ |
■a“十三五”国家重点图书出版规划项目 |
| 320 |
__ |
■a有书目 |
| 330 |
__ |
■a本书系统性回顾了过去半个世纪干法蚀刻技术的演变, 深入介绍了该技术的基本机理, 在逻辑产品和闪存产品中的具体应用以及+...... |
| 410 |
_0 |
■12001 ■a高端集成电路制造工艺丛书 |
| 510 |
1_ |
■aPlasma etching and its application in large scale integrat+...... |
| 606 |
0_ |
■a大规模集成电路■x集成电路工艺■x等离子刻蚀■Ada gui mo ji cheng dian lu |
| 690 |
__ |
■aTN405.98■v5 |
| 701 |
_0 |
■a张海洋■4编著■Azhang hai yang |
| 801 |
|
■aCN■bGSXY■c20180517 |
| 905 |
|
■aGSXY■fTN405.98/Z396■g1310559■g1310560 |
(共0票)
评价
