文献类型:专著 浏览次数:3
  • 题名:集成电路制造工艺与模拟
  • 责任者:孙晓东, 律博, 宋文斌编著
  • 出版社化学工业出版社
  • 出版年:2025.1
  • ISBN:978-7-122-46537-5
  • 定价:89.00
  • 载体形态项:184页 26cm
  • 个人责任者:孙晓东编著、律博编著、宋文斌编著
  • 学科主题:集成电路工艺
  • 中图法分类号:TN405
  • 提要文摘附注:本书内容涵盖集成电路制造工艺及模拟仿真知识。介绍了集成电路的发展史及产业发展趋势、集成电路制造工艺流程及模拟仿真基础、集成电路制造的材料及相关环境、晶圆的制备与加工; 具体讲解了氧化、淀积、金属化、光刻、刻蚀、离子注入、平坦化等关键工艺步骤的理论, 对氧化、光刻、离子注入等步骤进行工艺模拟仿真, 对关键的光刻工艺进行虚拟操作模拟; 以NMOS器件为例, 介绍了基本CMOS工艺流程及其模拟过程。
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