| 000 |
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01505nam0 2200361 450 |
| 010 |
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■a7-302-10860-9■dCNY59.00 |
| 100 |
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■a20060501d2006 em y0chiy0121 ea |
| 101 |
1_ |
■achi■ceng |
| 102 |
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■aCN■b110000 |
| 105 |
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■aa z 000yy |
| 106 |
__ |
■ar |
| 200 |
1_ |
■a集成电路掩模设计■e基础版图技术■f(美) Christopher Saint, (美) Judy Saint著■g+...... |
| 210 |
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■a北京■c清华大学出版社■d2006 |
| 215 |
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■a16, 435页■c图■d23cm |
| 225 |
2_ |
■a国外大学优秀教材■i微电子类系列(翻译版)■AGuo Wai Da Xue You Xiu Jiao Cai |
| 300 |
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■a其他题名：基础版图技术 |
| 305 |
__ |
■a美国麦格劳－希尔教育出版(亚洲)公司授权出版发行 |
| 312 |
__ |
■a书脊英文题名：IC mask design: essential layout techniques |
| 410 |
_0 |
■12001■a国外大学优秀教材 |
| 461 |
_0 |
■12001■a国外大学优秀教材 |
| 462 |
_0 |
■12001■a微电子类系列(翻译版) |
| 517 |
1_ |
■a基础版图技术■AJi Chu Ban Tu Ji Shu |
| 606 |
1_ |
■a集成电路工艺■x掩模■x工艺设计■x高等学校■AJi Cheng Dian Lu Gong Yi |
| 690 |
__ |
■aTN405.7■v4 |
| 701 |
_1 |
■a森特■g(Saint, Judy)■4著■ASen Te |
| 701 |
_1 |
■a森特■g(Saint, Christopher)■4著■ASen Te |
| 702 |
_0 |
■a周润德■c(微电子)■4译■AZhou Run De |
| 702 |
_0 |
■a金申美■4译■AJin Shen Mei |
| 801 |
_0 |
■aCN■bGSXY■c20060529 |
| 905 |
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■aGSXY■fTN405.7/S733 |
| 999 |
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■Myj■m20060529 22:01:25 |
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